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安集科技请求一种化学机械抛光液专利经过复合运用两种研磨颗粒该专利技术可一起对钨氮化硅等资料来高速的化学机械抛光。
来源:欧宝体育下载app苹果版    发布时间:2024-10-20 20:23:36

  金融界2024年7月2日音讯,天眼查知识产权信息数据显现,安集微电子科技(上海)股份有限公司请求一项名为“一种化学机械抛光液“,公开号CN4.9,请求日期为2022年12月。

  专利摘要显现,本发明供给了一种化学机械抛光液,包含研磨颗粒,催化剂,多元有机酸,氧化剂,氨基酸和pH调节剂。本发明的长处是:经过契合复合运用两种研磨颗粒,化学机械抛光液具有十分杰出的稳定性,可一起对钨,氮化硅等资料来高速的化学机械抛光。

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